臺積電逆襲10納米節點EUV工藝 [複製鏈接]

jennyjellyfish

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電梯直達

樓主

發表於 2015-2-26 16:03:44 |顯示全部樓層 |倒序瀏覽

英特爾作為半導體芯片產品的領頭企業，在半導體制程達到14nm節點之後，不斷向10nm以內的目標邁進。但事實上，極紫外光刻（EUV）技術設備在這一制程范圍內優勢明顯，而臺積電卻代替英特爾做瞭領頭羊。該公司和阿斯麥（ASML）聯手將EUV設備的每日產能提升到瞭1022片晶圓，對於這項新技術來說無疑是一項重大突破。