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臺積電逆襲10納米節點EUV工藝 [複製鏈接]

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電梯直達

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樓主

發表於 2015-2-26 16:03:44 |只看該作者 |倒序瀏覽

英特爾作為半導體芯片產品的領頭企業，在半導體制程達到14nm節點之後，不斷向10nm以內的目標邁進。但事實上，極紫外光刻（EUV）技術設備在這一制程范圍內優勢明顯，而臺積電卻代替英特爾做瞭領頭羊。該公司和阿斯麥（ASML）聯手將EUV設備的每日產能提升到瞭1022片晶圓，對於這項新技術來說無疑是一項重大突破。

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No.1回覆者

發表於 2015-2-26 18:01:32 |只看該作者

就為賺分嘛

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跟尾2

發表於 2015-2-26 18:01:35 |只看該作者

努力,努力,再努力!!!!!!

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跟尾3

發表於 2015-2-26 18:04:31 |只看該作者

我幫你這一帖頂起來

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5^#

發表於 2015-2-26 18:54:01 |只看該作者

謝謝樓主啊！

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6^#

發表於 2015-2-26 19:14:58 |只看該作者

我這樣算沙發嗎？

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7^#

發表於 2015-2-26 19:23:39 |只看該作者

這貼？不回都不行啊

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8^#

發表於 2015-2-26 19:23:51 |只看該作者

哈哈，看的人少，回一下

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9^#

發表於 2015-2-26 19:44:54 |只看該作者

快樂看帖，認真回覆

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10^#

發表於 2015-2-26 20:17:37 |只看該作者

幫你回覆一下

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