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臺積電逆襲10納米節點EUV工藝 [複製鏈接]

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電梯直達

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樓主

發表於 2015-2-26 16:03:44 |只看該作者 |正序瀏覽

英特爾作為半導體芯片產品的領頭企業，在半導體制程達到14nm節點之後，不斷向10nm以內的目標邁進。但事實上，極紫外光刻（EUV）技術設備在這一制程范圍內優勢明顯，而臺積電卻代替英特爾做瞭領頭羊。該公司和阿斯麥（ASML）聯手將EUV設備的每日產能提升到瞭1022片晶圓，對於這項新技術來說無疑是一項重大突破。

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39^#

發表於 2015-3-3 07:49:37 |只看該作者

分享我的感謝，謝謝樓主

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發表於 2015-3-3 07:46:25 |只看該作者

努力,努力,再努力!!!!!!

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發表於 2015-3-2 09:05:13 |只看該作者

我該不會是最後一個頂的吧

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發表於 2015-3-2 05:22:41 |只看該作者

老大,我好崇拜你喲

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發表於 2015-3-1 14:14:54 |只看該作者

我想要`~

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發表於 2015-3-1 09:29:16 |只看該作者

樓上的話等於沒說~~~

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發表於 2015-3-1 06:00:23 |只看該作者

我想要`~

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32^#

發表於 2015-3-1 02:33:06 |只看該作者

沒看過比樓主發的好帖

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發表於 2015-2-28 17:51:03 |只看該作者

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